Формування радіальних оптичних структур на круговій лазерній записуючій системі

Автор(и)

  • І. В. Косяк Інститут проблем реєстрації інформації НАН України, Україна
  • О. А. Цубін Інститут проблем реєстрації інформації НАН України, Україна

DOI:

https://doi.org/10.35681/1560-9189.2024.26.1.308326

Ключові слова:

оптичні структури, лазерний запис, енкодер, фотолітографія, підкладка

Анотація

Проведено аналіз і дослідження систем для формування планарних оптичних елементів. Розглянуто особливості розробки та побудови кругових лазерних записуючих систем. Запропоновано реалізацію формування радіальних оптичних структур лазерною системою запису оптичних дисків.

Посилання

Hyug-Gyo Rhee. Direct Laser Lithography and Its Applications. IntechOpen, 2010. 19 p. https://doi.org/10.5772/8167

Lin B.J. Optical Lithography. SPIE Press, Bellingham, WA, 2009. 136 p.

I. Bernardeschi, M. Ilyas, L. Beccai. A Review on Active 3D Microstructures via Direct Laser Lithography. Advanced Intelligent Systems published by Wiley-VCH GmbH, 2021. 20 p. https://doi.org/10.1002/aisy.202100051

Varapnickas S., Malinauskas M. Processes of Laser Direct Writing 3D Nanolithography. In book: Handbook of Laser Micro- and Nano-Engineering. Springer, Cham, 2020. pp. 1–31. https://doi.org/10.1007/978-3-030-63647-0_32

Kiryanov A.V., Vedernikov V.M., Kiryanov V.P., Kokarev S.A., Nikitin V.G. Forming high- precision angular measuring structures by the laser pattern generators with circular scanning. Measurement science review. 2006. Vol. 6, No. 1. pp. 10–13.

Zhenguo Bai, Jingsong Wei, Rui Wang. High-speed laser writing of arbitrary patterns in polar coordinate system. Review of Scientific Instruments. 2016. Vol. 87. pp. 1–6. https://doi.org/10.1063/1.4973397

Kiryanov A. Improving Synthesis Accuracy of Topology Elements in Laser Pattern Generators with Circular Scanning Mode. In book: Proceedings of the 5th International Conference on Industrial Engineering. 2020. pp. 497–506. https://doi.org/10.1007/978-3-030-22041-9_53

Syed Rizvi. Handbook of Photomask Manufacturing Technology. Taylor & Francis Group, 878 p. https://doi.org/10.1201/9781420028782

Wayne M Moreau. Semiconductor lithography: principles, practices, and materials. New York : Plenum Press, 1988. 931 p. https://doi.org/10.1007/978-1-4613-0885-0

Kosiak Y.V. Systema zapysy optycheskykh dyskov vыsokoi plotnosty. Reiestratsiia, zberi- hannia i obrob. danykh. 2012. V. 14, No 3. pp. 12–19. https://doi.org/10.35681/1560-9189.2012.14.3.105216

Kosiak I.V. Osoblyvosti pobudovy system zapysu optychnykh dyskiv vysokoi shchilnosti. Reiestratsiia, zberihannia i obrob. danykh. 2014. V. 16, No 2. pp. 87–99. https://doi.org/10.35681/1560-9189.2014.16.2.100259

Vysokoshvydkisnyi interferometr na osnovi zapamiatovuiuchoho prystroiu: pat. 106553 Ukraina. No a201304496, zaiavl. 10.04.2013; opubl. 10.09.2014. Biul. No 17. 6 p.

##submission.downloads##

Опубліковано

2024-05-21

Номер

Розділ

Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних